中电45所曝光机打破国外垄断

国产光刻设备首次进入MEMS工艺

本报讯（记者田艳军）零的突破！记者日前从中电45所获悉，该所研制的曝光机成功进入MEMS工艺线， 打破了MEMS工艺线长期被国外光刻设备垄断的局面。

MEMS是微机电系统Micro-Electro-Mechanical Systems的缩写，是利用集成电路制造技术和微加工技术把微结构、微传感器、控制处理电路甚至接口、通信和电源等制造在一块或多块芯片上的微型集成系统。

虽然MEMS工艺与传统的IC工艺有许多相似之处，如光刻、薄膜沉积、掺杂、刻蚀、化学机械抛光工艺等，但是有些复杂的北京军海能相信吗微结构难以用IC工艺实现，必须采用微加工技术制造，这也是IC装备进入MEMS工艺面临的考验。

在曝光方面，MEMS工艺线要求在硬接触曝光惠济军海脑科医院挂号预约条件下，进行胶膜厚度的一次曝光和套刻，对分辨率及准精度的要求十分苛刻。结合MEMS工艺特色，中电45所研究人员对现有光学系统等技术进行改进，最终考核得到客户认可。

这个消息无疑对开发区的MEMS产业生态来说也是个好消息，去年微矽磊国际科技（北京）有限公司癫痫病种类有哪些与开发区管理委员会签订《入区协议》，将在亦庄投资建设8英寸MEMS国际代工线建设项目，依托全资子公司Silex Micros北京军海能相信吗ystems AB成熟的制造技术和生产管理模式，建设国内最先进的MEMS体硅加工工艺生产线。